종류 및 가공 처리 데이텀 이온 원리
우선, 가공 부에서 참조의 형식
데이텀 프로덕션 객체 형상 요소 사이의 기하학적 관계를 결정하는 데 사용 된 점, 선, 영역이다. 디자인 벤치 마크 및 공정 벤치 마크 : 벤치 마크의 역할에 따르면, 벤치 마크는 두 가지 범주로 나눌 수 있습니다.
1. 설계 기준
설계 도면에 사용 된 자료는 설계 자료라고합니다. 아래 그림과 같이 A와 B는 구멍의 중심의 치수이다. 설계 기준은 ①과 ② 비행기. 그들은 그림에 라인을 반영한다. 구경 D의 설계 기준 축이며, 점 도면에 반영된다.
2. 프로세스 벤치 마크
위치, 검사, 조립 가공 공정에 사용 된 기준은 기준 위치 측정 기준과 기준 조립체를 포함하는 프로세스 벤치 마크라고한다. 상기 도면에 도시 된 바와 같이 원형 구멍을 천공 할 때 예를 들어, 하나의 설치 방법은 사용되는 ①과 ② 표면 위치 결정 기준 및 설계 기준과 위치 결정 기준 일치 등;
또 다른 방법은 위치 결정 기준으로서 평면 ③ ①을 사용하고있다. 이 때, 위치 참조 설계 기준과 일치하지 않습니다.
첫 번째 단계는, 위치 결정 기준으로 거친 표면을 사용한다. 절단이없는 기준 위치는 대략 기준이라고 한, 러프 참조 한번만 사용된다. 가공이 계속되면, 가공면의 위치 결정 기준으로 사용된다. 절단 후에이 위치는 기준 미세 기준이라한다.
둘째, 가공 부품 참조 이온의 원리
거친 벤치 마크 1. 이온
거친 데이텀은 제 1 처리 단계에있는 거친 표면에 위치하는 데이텀이다. 거친 데이텀을 보내고 때 처리 된 표면은 비 가공면에 대해 적절한 상호 위치를 가질 수 있도록 각각의 표면은 충분한 가공 여유를 갖도록한다. 이온 원칙은 다음과 같습니다 :
(1) 처리 및 비 가공면의 위치 오차가 최소가되도록 거친 기준으로 처리 될 필요가없는 공작물의 표면을 사용한다.
(2)가 상기 공작물의 중요한면의 가공 여유가 균일하게되도록 할 필요가있는 경우는, 표면이 거친 에드 기준으로한다.
(3)의 거친 충분히 크고 거친 표면이 거친 기준으로서 사용되어야한다.
거친 데이텀의 표면 정밀도가 낮기 때문에 (4)를 거친 데이텀 재사용 될 수 없으며, 그것은 보장되지 두 개의 설치시와 동일한 위치에서 공작물 남아.
미세 벤치 마크 2. 이온
다음 단계에서, 처리 된 표면은, 위치 기준으로서 사용되어야한다. 이 위치 기준은 미세 기준이라한다. 정확한 기준의 이온은 직접적으로 부분면의 각각의 상호의 위치 정밀도에 영향을 미친다. 정확한 기준을 보내고 때 따라서, 상기 공작물 클램핑 편리하고 신뢰성 가공 정밀도를 보장 할 필요가있다. 좋은 벤치 마크를 선택하기위한 원칙은 다음과 같습니다 :
(1) 벤치 마크 우연의 일치의 원칙 : 가능한 고급으로 사용 디자인 벤치 마크는 잘못 정렬 벤치 마크에 의한 오류의 위치를 방지 할 수 있습니다.
(2) 동일한 도면의 원리 : 동일한 미세 기준은 최대한 표면 처리 위치 결정 기준을 변경함으로써 발생되는 에러를 감소 및 정체 구조를 균일하게하도록 사용되어야한다. 예를 들어, 상기 중심 구멍은 축 부품 가공을위한 미세 기준으로서 사용되며, 항상 다양한 저널 사이의 동축도를 보장하도록, 프로세스를 선삭, 밀링, 미세 기준으로서 사용하고, 연삭된다. 또한 생산성을 높일 수 있습니다. 기어 가공시 또 다른 예를 들어, 내부 구멍은 일반적으로 먼저 처리되고, 그 내부 구멍은 미세 기준으로서 사용된다.
(3) 상호 참조의 원리 : 사용 위치 결정 기준이 상호 교대로 위치 정밀도를 필요로하는 공작물에 양면. 예를 들어, 반소매 처리 구멍과 바깥 쪽 원의 동축도를 보장하기 위해 위해 외측 원 먼저 구멍 연삭 위치 기준으로서 사용되어야하고 연마 구멍의 참조 기준으로 사용되어야 외부 원 연삭.
(4) 간편한 설치 및 정체의 간단한 구조.
(5)을 간단한 형상 및 설치의 안정성과 정확도를 향상시키기 위해 미세 참조와 큰 크기의 표면을 선택하도록 시도.
